Dynamically decoupled ion pump and charged-particle beam system

WO2025153335 Art A1 24. Juli 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025153335
Aktenzeichen: EP25700185
Anmeldetag: 4. Januar 2025
Veröffentlichung: 24. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/18F04D29/60H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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