Capacitor system for a radiation source of a lithographic apparatus

WO2025153874 Art A1 24. Juli 2025

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025153874
Aktenzeichen: EP24837689
Anmeldetag: 12. Dezember 2024
Veröffentlichung: 24. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01S3/032H01S3/038H01J7/46

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CYMER, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

399 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von