Sputtering target and alloy thin film

WO2025154423 Art A1 24. Juli 2025

Anmelder: PROTERIAL, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025154423
Aktenzeichen: EP24918480
Anmeldetag: 5. Dezember 2024
Veröffentlichung: 24. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F1/00B22F3/10C22C1/04C22C27/02C22C30/00C22C33/02C23C14/14C23C14/35G11B5/82G11B5/84G11B5/706G11B5/738G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: PROTERIAL, LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Proterial

Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.

1.746 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von