Radiation-sensitive composition and method for forming pattern

WO2025154446 Art A1 24. Juli 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025154446
Aktenzeichen: EP24918503
Anmeldetag: 13. Dezember 2024
Veröffentlichung: 24. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C25/00C07C309/12C07C309/17C07C381/12C07D317/24C07D317/30C07D317/70C07D333/28C08F212/14G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von