Methods and systems for reflectometry based measurements of deep, large pitch semiconductor structures
WO2025155767
Art A1
24. Juli 2025
Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025155767
- Aktenzeichen
- EP25742440
- Anmeldetag
- 16. Januar 2025
- Veröffentlichung
- 24. Juli 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/88G01N21/95G01N21/25G01B11/22H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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Vertreten von
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