Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines Strukturierten Substrats sowie Substrat zur Durchführung des Verfahrens

WO2025157847 Art A1 31. Juli 2025

Anmelder: AIXTRON SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025157847
Aktenzeichen: EP25702171
Anmeldetag: 22. Januar 2025
Veröffentlichung: 31. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/04C23C16/458C23C16/46C23C16/52H01L21/67H01L21/687G01J5/00G01J5/80C30B25/10C30B25/16

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: AIXTRON SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von