Method for producing anodized coating, alumite component, and plasma processing device

WO2025158630 Art A1 31. Juli 2025

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025158630
Aktenzeichen: EP24920352
Anmeldetag: 25. Januar 2024
Veröffentlichung: 31. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C25D11/18C25D11/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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