Radiation-sensitive composition, pattern formation method, polymer, and compound

WO2025158854 Art A1 31. Juli 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025158854
Aktenzeichen: EP24920077
Anmeldetag: 24. Dezember 2024
Veröffentlichung: 31. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C25/18C07C309/17C07C381/12C07D317/56C07D493/08C08F220/12G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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