Processing device, work device, and work method
WO2025158953
Art A1
31. Juli 2025
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025158953
- Aktenzeichen
- EP25744885
- Anmeldetag
- 14. Januar 2025
- Veröffentlichung
- 31. Juli 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B45/00B24B7/04H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.255 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.