Low temperature chemical vapor deposition of nanocrystalline diamond film

WO2025159912 Art A1 31. Juli 2025

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025159912
Aktenzeichen: EP25745102
Anmeldetag: 9. Januar 2025
Veröffentlichung: 31. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/06C23C14/35C23C14/54

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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