Chemical vapor deposition automation device capable of realizing atomic-precision manufacturing

WO2025161289 Art A1 7. August 2025

Anmelder: ZHEJIANG UNIVERSITY 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025161289
Aktenzeichen: EP24921322
Anmeldetag: 23. Juli 2024
Veröffentlichung: 7. August 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ZHEJIANG UNIVERSITY
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Zhejiang University

Chinesische Universität mit Sitz in Hangzhou, eine der führenden Forschungshochschulen Chinas mit breitem Fächerspektrum einschließlich Ingenieurwissenschaften und Materialforschung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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