Radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, and compound

WO2025164208 Art A1 7. August 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025164208
Aktenzeichen: EP25748499
Anmeldetag: 7. Januar 2025
Veröffentlichung: 7. August 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C63/08C07C65/10C07C65/21C07C381/12C07D317/56C08F8/12C08F212/14C08F220/18G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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