Method for selective exposure of wafer to corrective irradiation at a per-die level

WO2025165500 Art A1 7. August 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025165500
Aktenzeichen: EP24922392
Anmeldetag: 19. Dezember 2024
Veröffentlichung: 7. August 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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