Airflow regulating structure and airflow regulating method

WO2025167498 Art A1 14. August 2025

Anmelder: ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC., ACM RESEARCH KOREA CO., LTD., CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025167498
Aktenzeichen: EP25751100
Anmeldetag: 15. Januar 2025
Veröffentlichung: 14. August 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/52

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC.
ACM RESEARCH KOREA CO., LTD.
CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

260 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von