Radiation-sensitive composition, pattern forming method, and onium salt

WO2025169659 Art A1 14. August 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025169659
Aktenzeichen: EP25752081
Anmeldetag: 9. Januar 2025
Veröffentlichung: 14. August 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D321/10C07D333/76C07D335/04C07D493/08C07D495/18C08F20/10G03F7/20G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von