Film forming device, film forming method, and substrate processing method

WO2025169766 Art A1 14. August 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025169766
Aktenzeichen: EP25752020
Anmeldetag: 27. Januar 2025
Veröffentlichung: 14. August 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/314C23C16/40C23C16/505H01L21/306H01L21/316H10B41/27H10B43/27H10D30/68

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.255 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von