Trench and channel gap fill tuning for flowable chemical vapor deposition (fcvd) films

WO2025170714 Art A1 14. August 2025

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025170714
Aktenzeichen: EP25752646
Anmeldetag: 13. Januar 2025
Veröffentlichung: 14. August 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H10D30/01H10D30/67H01L21/02H10D30/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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