Chemical Vapor Infiltration Gas Inlet Injector Plate

WO2025171270 Art A1 14. August 2025

Anmelder: RTX CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025171270
Aktenzeichen: EP25752922
Anmeldetag: 7. Februar 2025
Veröffentlichung: 14. August 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/04C23C16/455C23C16/458C23C16/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: RTX CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 RTX Corporation

US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Verteidigungskonzern, entstanden aus Raytheon und United Technologies. Entwickelt und fertigt Triebwerke, Avionik, Radarsysteme, Raketen- und Verteidigungstechnik für zivile und militärische Kunden.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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