Verfahren zum Herstellen eines Substrats, eines Optischen Systems und einer Lichtquellenanordnung für eine Lithographieanlage und Substrat zur Verwendung als Teil eines Optischen Elements in einem Optischen System einer Lithographieanlage

WO2025172365 Art A1 21. August 2025

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025172365
Aktenzeichen: EP25705877
Anmeldetag: 12. Februar 2025
Veröffentlichung: 21. August 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/18G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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