Radiation-sensitive composition, pattern formation method, and radiation-sensitive acid generator

WO2025173494 Art A1 21. August 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025173494
Aktenzeichen: EP25754821
Anmeldetag: 23. Januar 2025
Veröffentlichung: 21. August 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D207/404C07D209/48C07D209/80C07D317/70C07D321/06C08F12/16C08F22/18G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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