Resist composition, resist pattern formation method, compound, radical polymerization initiator, chain transfer agent, and polymer

WO2025173572 Art A1 21. August 2025

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025173572
Aktenzeichen: EP25754803
Anmeldetag: 3. Februar 2025
Veröffentlichung: 21. August 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C07C245/04C07C255/65C07C323/12C08F4/04C08F220/18G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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