Substrate processing device and substrate processing method

WO2025173591 Art A1 21. August 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025173591
Aktenzeichen: EP25754707
Anmeldetag: 4. Februar 2025
Veröffentlichung: 21. August 2025
Rechtsraum: WO
IPC: B24B41/06B24B37/005B24B49/10B24B57/02H01L21/304H01L21/306H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.255 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von