Minimizing Contamination Within Substrate Cleaning Chamber

WO2025174670 Art A1 21. August 2025

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025174670
Aktenzeichen: EP25755440
Anmeldetag: 7. Februar 2025
Veröffentlichung: 21. August 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/67B08B9/093

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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