Ion beam aperture control for ion beam substrate processing systems

WO2025174791 Art A1 21. August 2025

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025174791
Aktenzeichen: EP25755510
Anmeldetag: 12. Februar 2025
Veröffentlichung: 21. August 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/08H01J27/02H01J37/305

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von