Easily integrable high-voltage-withstanding enhancement-mode gallium nitride device

WO2025175760 Art A1 28. August 2025

Anmelder: SOUTHEAST UNIVERSITY 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025175760
Aktenzeichen
EP24925500
Anmeldetag
24. September 2024
Veröffentlichung
28. August 2025
Rechtsraum
WO
IPC
H10D30/47H10D62/10H10D64/23
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
SOUTHEAST UNIVERSITY
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Southeast University

Chinesische Universität mit Sitz in Nanjing, Schwerpunkt auf Ingenieur- und Technikwissenschaften.

1.065 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen