Dry Etching Mask Composition

WO2025178071 Art A1 28. August 2025

Anmelder: TOMOEGAWA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025178071
Aktenzeichen
EP25758295
Anmeldetag
20. Februar 2025
Veröffentlichung
28. August 2025
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/11C23C28/00G03F7/40H05K3/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOMOEGAWA CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tomoegawa

Tomoegawa ist ein japanischer Hersteller von Spezialpapieren und Funktionsmaterialien mit Sitz in Tokio, der unter anderem Materialien für Elektronik und optische Anwendungen produziert. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Optik- und Fototechnik sowie Halbleiter- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2000 bis 2025 ab.

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