Method and system for producing a lithography apparatus or one of its components and/or for adjusting an apparatus parameter of the lithography apparatus

WO2025180713 Art A1 4. September 2025

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025180713
Aktenzeichen: EP25701411
Anmeldetag: 17. Januar 2025
Veröffentlichung: 4. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G06N3/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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