Method of monitoring an exposure process

WO2025180728 Art A1 4. September 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025180728
Aktenzeichen: EP25701226
Anmeldetag: 23. Januar 2025
Veröffentlichung: 4. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von