Compound, composition, composition for forming film for semiconductor lithography, and composition for forming resist film for semiconductor lithography

WO2025182386 Art A1 4. September 2025

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025182386
Aktenzeichen: EP25761709
Anmeldetag: 27. Januar 2025
Veröffentlichung: 4. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C07C43/23C08F212/08G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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