Cr-si-n sintered compact, production method therefor, sputtering target, and production method for nitrogen-containing chromium silicide film
WO2025182969
Art A1
4. September 2025
Anmelder: TOSOH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025182969
- Aktenzeichen
- EP25761046
- Anmeldetag
- 26. Februar 2025
- Veröffentlichung
- 4. September 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C04B35/58C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOSOH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tosoh Corporation
Japanisches Chemieunternehmen, das Petrochemikalien, Spezialchemikalien und Zement herstellt.
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