Chemical Mechanical Polishing Pad
WO2025183025
Art A1
4. September 2025
Anmelder: ZEON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025183025
- Aktenzeichen
- EP25761920
- Anmeldetag
- 26. Februar 2025
- Veröffentlichung
- 4. September 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B37/24C08J5/14C08K7/22C08L53/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ZEON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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