Plasma-resistant structure, production method for plasma-resistant structure, electrostatic chuck, edge ring, fiber structure, plasma processing device member, and repair method for plasma processing device member

WO2025183157 Art A1 4. September 2025

Anmelder: TOMOEGAWA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025183157
Aktenzeichen
EP25762069
Anmeldetag
28. Februar 2025
Veröffentlichung
4. September 2025
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/683H01L21/31H01L21/3065
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOMOEGAWA CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tomoegawa

Tomoegawa ist ein japanischer Hersteller von Spezialpapieren und Funktionsmaterialien mit Sitz in Tokio, der unter anderem Materialien für Elektronik und optische Anwendungen produziert. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Optik- und Fototechnik sowie Halbleiter- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2000 bis 2025 ab.

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