Plasma-resistant structure, production method for plasma-resistant structure, electrostatic chuck, edge ring, fiber structure, plasma processing device member, and repair method for plasma processing device member
WO2025183157
Art A1
4. September 2025
Anmelder: TOMOEGAWA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025183157
- Aktenzeichen
- EP25762069
- Anmeldetag
- 28. Februar 2025
- Veröffentlichung
- 4. September 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/683H01L21/31H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOMOEGAWA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tomoegawa
Tomoegawa ist ein japanischer Hersteller von Spezialpapieren und Funktionsmaterialien mit Sitz in Tokio, der unter anderem Materialien für Elektronik und optische Anwendungen produziert. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Optik- und Fototechnik sowie Halbleiter- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2000 bis 2025 ab.
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