Equipment and method for post-exposure bake and dry development of extreme ultraviolet photoresists

WO2025184252 Art A1 4. September 2025

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025184252
Aktenzeichen: EP25762548
Anmeldetag: 26. Februar 2025
Veröffentlichung: 4. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/687H01L21/67H01L21/677G03F7/36G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von