Method for preparing a support substrate made of polycrystalline material and method for manufacturing a composite structure including said support substrate
WO2025186046
Art A1
11. September 2025
Anmelder: SOITEC 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025186046
- Aktenzeichen
- EP25707731
- Anmeldetag
- 25. Februar 2025
- Veröffentlichung
- 11. September 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SOITEC
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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