Method and system for wavelength measurement for a lithographic apparatus or an inspection apparatus

WO2025186638 Art A1 12. September 2025

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025186638
Aktenzeichen: EP25706451
Anmeldetag: 4. Februar 2025
Veröffentlichung: 12. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01S3/139

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CYMER, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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