Method for producing surface-treated substrate

WO2025187551 Art A1 12. September 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025187551
Aktenzeichen: EP25767741
Anmeldetag: 28. Februar 2025
Veröffentlichung: 12. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/04C23C16/455C23C26/00H01L21/285H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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