Base with bonding bump, and method for manufacturing base with bonding bump
WO2025187820
Art A1
12. September 2025
Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025187820
- Aktenzeichen
- EP25768428
- Anmeldetag
- 7. März 2025
- Veröffentlichung
- 12. September 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/60C23C28/02C25D3/12C25D3/38C25D5/02C25D7/00H05K3/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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Vertreten von
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