Semiconductor device with drain electrical contact forming junctions having different energy barrier heights to drain layer

WO2025188689 Art A1 12. September 2025

Anmelder: TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025188689
Aktenzeichen
EP25768222
Anmeldetag
4. März 2025
Veröffentlichung
12. September 2025
Rechtsraum
WO
IPC
H10D30/47H10D30/01H10D62/13H10D64/64H10D64/23
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Texas Instruments

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.

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