Semiconductor device with drain electrical contact forming junctions having different energy barrier heights to drain layer
WO2025188689
Art A1
12. September 2025
Anmelder: TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025188689
- Aktenzeichen
- EP25768222
- Anmeldetag
- 4. März 2025
- Veröffentlichung
- 12. September 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H10D30/47H10D30/01H10D62/13H10D64/64H10D64/23
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Texas Instruments
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.
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