Method for depositing thin film on substrate and use thereof, and semiconductor device and use thereof

WO2025189893 Art A1 18. September 2025

Anmelder: CHINA NATIONAL PETROLEUM CORPORATION, CNPC TUBULAR GOODS RESEARCH INSTITUTE 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025189893
Aktenzeichen: EP24929336
Anmeldetag: 18. Dezember 2024
Veröffentlichung: 18. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: CHINA NATIONAL PETROLEUM CORPORATION
CNPC TUBULAR GOODS RESEARCH INSTITUTE
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 China National Petroleum

China National Petroleum ist der staatliche chinesische Öl- und Gaskonzern (CNPC) mit weltweiter Exploration und Förderung. Der Patentbestand konzentriert sich auf Bergbau- und Bohrtechnik sowie Mess- und Verfahrenstechnik für die Kohlenwasserstoffgewinnung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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