Resist composition, resist pattern formation method, compound, and acid generator

WO2025192062 Art A1 18. September 2025

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025192062
Aktenzeichen: EP25771645
Anmeldetag: 27. Januar 2025
Veröffentlichung: 18. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C307/02C07C381/12C07D207/48C07D209/48C07D209/58C07D211/96C07D223/10C07D491/08C07D491/056C09K3/00G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von