Laminated film, semiconductor chip with bonding layer, method for manufacturing laminated film, method for manufacturing semiconductor chip with bonding layer, and method for manufacturing semiconductor device

WO2025192213 Art A1 18. September 2025

Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025192213
Aktenzeichen
EP25770061
Anmeldetag
19. Februar 2025
Veröffentlichung
18. September 2025
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/52B32B7/12C09J7/30C09J7/38C09J201/00H01L21/56H01L21/301H01L23/29H01L23/31
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
RESONAC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

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