Plasma processing device and plasma control method

WO2025192298 Art A1 18. September 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, THE UNIVERSITY OF SHIGA PREFECTURE 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025192298
Aktenzeichen: EP25769876
Anmeldetag: 27. Februar 2025
Veröffentlichung: 18. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
THE UNIVERSITY OF SHIGA PREFECTURE
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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