Wet grinding method

WO2025192488 Art A1 18. September 2025

Anmelder: NIPPON CHEMICAL INDUSTRIAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025192488
Aktenzeichen: EP25769458
Anmeldetag: 10. März 2025
Veröffentlichung: 18. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: B02C17/20B02C17/00H01G4/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIPPON CHEMICAL INDUSTRIAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Chemical Industrial

Nippon Chemical Industrial ist ein japanischer Chemiehersteller mit Sitz in Tokio, der unter anderem anorganische Feinchemikalien und leitfähige Partikel produziert. Das Patentportfolio konzentriert sich auf anorganische Chemie sowie Halbleiter- und elektrische Bauelemente. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2000 bis 2025 ab.

257 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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