Bismaleimide compound, photosensitive resin composition including same, cured object obtained therefrom, semiconductor element, and dry film resist
WO2025192495
Art A1
18. September 2025
Anmelder: NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025192495
- Aktenzeichen
- EP25769465
- Anmeldetag
- 10. März 2025
- Veröffentlichung
- 18. September 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F22/40C07D487/04C08F290/06C08G73/10G03F7/004G03F7/027H01L21/312
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nippon Kayaku
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Spezialchemikalien, Pharmazeutika und Farbstoffe.
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