Curing agent for low dielectric resin, low dielectric resin composition, resin film, prepreg, metal-clad laminate, and method for producing metal-clad laminate

WO2025192520 Art A1 18. September 2025

Anmelder: NOF CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025192520
Aktenzeichen
EP25769489
Anmeldetag
10. März 2025
Veröffentlichung
18. September 2025
Rechtsraum
WO
IPC
C08L101/02C08J5/10C08K5/14
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
NOF CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 NOF

NOF Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen mit Schwerpunkt Öl- und Fettchemie sowie Lipiden für pharmazeutische Anwendungen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Kunststoff- und Polymertechnik sowie Medizintechnik, ergänzt um Farben und organische Chemie. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

511 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen