Method for semiconductor manufacturing

WO2025193329 Art A1 18. September 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025193329
Aktenzeichen: EP25772439
Anmeldetag: 16. Januar 2025
Veröffentlichung: 18. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H10D30/01H10D30/00H10D30/67H10D62/00H10D62/13

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.255 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von