Verfahren zum Betreiben eines Euv-Spiegelsystems, Euv-Spiegelsystem, Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

WO2025195691 Art A1 25. September 2025

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025195691
Aktenzeichen: EP25706696
Anmeldetag: 13. Februar 2025
Veröffentlichung: 25. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G02B7/18G02B7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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