Method for improved selective etching of silicon nitride over silicon oxide

WO2025195821 Art A1 25. September 2025

Anmelder: EVONIK OPERATIONS GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025195821
Aktenzeichen
EP25709721
Anmeldetag
10. März 2025
Veröffentlichung
25. September 2025
Rechtsraum
WO
IPC
C09K3/14C07F7/18C09K13/04
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
EVONIK OPERATIONS GMBH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Evonik

Deutscher Spezialchemiekonzern mit Sitz in Essen. Entwickelt und produziert Chemikalien, Additive und Materialien für Industrie, Gesundheit, Ernährung und Konsumgüter.

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