Method for improved selective etching of silicon nitride over silicon oxide

WO2025195822 Art A1 25. September 2025

Anmelder: EVONIK OPERATIONS GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025195822
Aktenzeichen: EP25710485
Anmeldetag: 10. März 2025
Veröffentlichung: 25. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: EVONIK OPERATIONS GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Evonik

Deutscher Spezialchemiekonzern mit Sitz in Essen. Entwickelt und produziert Chemikalien, Additive und Materialien für Industrie, Gesundheit, Ernährung und Konsumgüter.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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