Plasma processing device

WO2025197038 Art A1 25. September 2025

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION, NODA RF TECHNOLOGIES CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025197038
Aktenzeichen: EP24930819
Anmeldetag: 21. März 2024
Veröffentlichung: 25. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
NODA RF TECHNOLOGIES CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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